Web Search: Goods Information jobs Download
关于我们

Arsenide sputtering target

Arsenide sputtering target (compound semiconductor sputtering targets

 

Metal Sputtering Targets                  Alloy Sputtering Targets                 Noble Metal and alloy Sputtering Targets

Oxide Sputtering Targets                 Nitride Sputtering Targets              Sulfide Sputtering Targets

Carbide  Sputtering Targets            Boride Sputtering Targets               Antimonide  Sputtering Targets

Fluoride Sputtering Targets            Selenide Sputtering Targets             Silicide Sputtering Targets

Telluride Sputtering Targets            Arsenide Sputtering Targets

 

Sputtering Target Shape: discs, plate, rod, tube, sheet, Delta, and per drawing 

Made sputtering targets method: hot pressing (HP), hot/cold isostatic pressing (HIP, CIP), and vacuum melting, vacuum sintering

Sputtering Targets Spec.: Diameter: 355.6mm (14") max. Single piece Size: Length: <254mm, Width: <127mm, Thickness: >1mm, if larger size than this, we can do it as tiles joint by 45 degree or 90 degree.

 

 

 

MaSerial Name

Formula

Purity

Zinc Arsenide

Zn3As2

99.99%, 99.999%

Germanium Arsenide

GeAs

99.99%, 99.999%

Gallium Arsenide

GaAs

99.99%, 99.999%

Copper Arsenide

Cu3As

99.99%, 99.999%

Cobalt Arsenide

CoAs2

99.99%

 

We have only listed the more popular material. Please feel free contact us (allelem76@gmail.com) with any special requirements at any times, we will try to get back for you ASAP.

 

 

About Arsenide compound semiconductor sputtering targets material basic knowledge: